MOCVD سسٹم کیا ہے؟

MOCVD، جسے Metal-organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) کہا جاتا ہے، سبسٹریٹ پر پتلی سیمی کنڈکٹر فلموں کو اگانے کی ایک تکنیک ہے۔ MOCVD کے ساتھ، بہت سی نینو تہوں کو بڑی درستگی کے ساتھ جمع کیا جا سکتا ہے، ہر ایک کو کنٹرول شدہ موٹائی کے ساتھ، مخصوص نظری اور برقی خصوصیات کے ساتھ مواد بنانے کے لیے۔

ایک MOCVD نظام ایک قسم کا کیمیائی بخارات جمع کرنے (CVD) نظام ہے جو دھاتی نامیاتی پیش خیمہ کا استعمال کرتے ہوئے مواد کی پتلی فلموں کو سبسٹریٹ پر جمع کرتا ہے۔ یہ نظام ری ایکٹر کے برتن، گیس کی ترسیل کا نظام، سبسٹریٹ ہولڈر اور درجہ حرارت کنٹرول کرنے والے نظام پر مشتمل ہے۔ دھاتی نامیاتی پیش خیمہ کو ری ایکٹر کے برتن میں کیریئر گیس کے ساتھ متعارف کرایا جاتا ہے، اور ایک اعلیٰ قسم کی پتلی فلم کی نشوونما کو یقینی بنانے کے لیے درجہ حرارت کو احتیاط سے کنٹرول کیا جاتا ہے۔

MOCVD کے استعمال کے دیگر جمع کرنے کی تکنیکوں کے مقابلے میں کئی فوائد ہیں۔ ایک فائدہ یہ ہے کہ یہ پتلی فلموں کی موٹائی اور ساخت پر عین کنٹرول کے ساتھ پیچیدہ مواد کو جمع کرنے کی اجازت دیتا ہے۔ یہ خاص طور پر اعلیٰ کارکردگی والے سیمی کنڈکٹر آلات کی تیاری کے لیے اہم ہے، جہاں پتلی فلموں کی مادی خصوصیات ڈیوائس کی کارکردگی پر نمایاں اثر ڈال سکتی ہیں۔

MOCVD کا ایک اور فائدہ یہ ہے کہ اسے سلکان، سیفائر، اور گیلیم آرسنائیڈ سمیت مختلف ذیلی جگہوں پر پتلی فلموں کو جمع کرنے کے لیے استعمال کیا جا سکتا ہے۔ یہ لچک اسے کمپیوٹر چپس سے لے کر ایل ای ڈی تک وسیع پیمانے پر سیمی کنڈکٹر آلات کی تیاری میں ایک ضروری عمل بناتی ہے۔

MOCVD سسٹمز سیمی کنڈکٹر انڈسٹری میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتے ہیں، اور وہ بہت سی جدید ٹیکنالوجیز کی ترقی میں اہم کردار ادا کرتے رہے ہیں۔ مثال کے طور پر، MOCVD کا استعمال روشنی اور ڈسپلے ایپلی کیشنز کے لیے اعلی کارکردگی والے LEDs کے ساتھ ساتھ فوٹو وولٹک ایپلی کیشنز کے لیے اعلیٰ کارکردگی والے سولر سیلز بنانے کے لیے کیا گیا ہے۔