- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
کمپنی کی خبریں
سیمی کنڈکٹر CVD SiC پروسیس ٹیکنالوجی کی تفصیلی وضاحت (Part.Ⅱ)
کیمیائی بخارات جمع کرنے (CVD) کے عمل میں، استعمال ہونے والی گیسوں میں بنیادی طور پر ری ایکٹنٹ گیسیں اور کیریئر گیسیں شامل ہیں۔ ری ایکٹنٹ گیسیں جمع شدہ مواد کے لیے ایٹم یا مالیکیول فراہم کرتی ہیں، جبکہ کیریئر گیسیں رد عمل کے ماحول کو کمزور اور کنٹرول کرنے کے لیے استعمال ہوتی ہیں۔ ذیل میں کچھ عام طور ......
مزید پڑھ
سیمی کنڈکٹر CVD SiC پروسیس ٹیکنالوجی کی تفصیلی وضاحت (Part.I)
کیمیائی بخارات جمع کرنے (CVD) سلکان کاربائیڈ (Sic) پراسیس ٹیکنالوجی پر بحث کرنے سے پہلے، آئیے پہلے "کیمیائی بخارات جمع کرنے" کے بارے میں کچھ بنیادی معلومات کا جائزہ لیں۔ کیمیائی بخارات جمع (CVD) مختلف کوٹنگز کی تیاری کے لیے عام طور پر استعمال ہونے والی تکنیک ہے۔ اس میں ایک یکساں پتلی فلم یا کوٹنگ......
مزید پڑھ
انڈکشن ہیٹنگ فرنس میں کاربن فیلٹ - حصہ 2
ہائی ٹمپریچر انڈکشن ہیٹنگ ماحول میں موصلیت کے نظام کے لیے ویزکوز پر مبنی کاربن فائبر کی موزونیت بنیادی طور پر اس کی اہم خصوصیات کی وجہ سے ہے، بشمول کم تھرمل چالکتا، اعلی تھرمل استحکام، بہترین تھرمل جھٹکا مزاحمت، اعلی طہارت اور کم ناپاک مواد، اور ہلکا پھلکا عمل۔
مزید پڑھ
انڈکشن ہیٹنگ فرنس میں ویزکوز پر مبنی فیلٹ
ہائی ٹمپریچر انڈکشن ہیٹنگ ماحول میں موصلیت کے نظام کے لیے ویزکوز پر مبنی کاربن فائبر کی موزونیت بنیادی طور پر اس کی اہم خصوصیات کی وجہ سے ہے، بشمول کم تھرمل چالکتا، اعلی تھرمل استحکام، بہترین تھرمل جھٹکا مزاحمت، اعلی طہارت اور کم ناپاک مواد، اور ہلکا پھلکا عمل۔ یہ خصوصیات ایک ساتھ مل کر کام کرتی ہیں......
مزید پڑھ
