ALD Planetary Susceptor

درخواستیں:

ہائی-کے ڈائی الیکٹرک جمع: ALD Planetary Susceptor Hafnium oxide (HfO2) اور ایلومینیم آکسائیڈ (Al2O3) جیسے ہائی-k ڈائی الیکٹرک مواد کو جمع کرنے میں استعمال ہونے والے جارحانہ پیشرو کے خلاف بہترین مزاحمت دکھاتا ہے۔ یہ ALD Planetary Susceptor کو منطق اور میموری ایپلی کیشنز کے لیے اعلیٰ کارکردگی والے ٹرانجسٹر بنانے کے لیے موزوں بناتا ہے۔

میٹالائزیشن پرتیں: ALD Planetary Susceptor کا اعلی درجہ حرارت کا استحکام بلند درجہ حرارت پر دھات کاری کی تہوں کو جمع کرنے کی اجازت دیتا ہے، جس سے فلمی خصوصیات میں بہتری آتی ہے جیسے کم مزاحمت اور زیادہ کثافت۔ اعلی درجے کے سیمی کنڈکٹر آلات میں موثر آپس میں رابطے بنانے کے لیے یہ بہت اہم ہے۔

آپٹو الیکٹرانک ڈیوائس فیبریکیشن:ALD Planetary Susceptor کی غیر فعال نوعیت III-V سیمی کنڈکٹرز جیسے حساس مواد کو جمع کرنے کے لیے استعمال ہونے والے پیشروؤں کے ساتھ ناپسندیدہ رد عمل کو کم کرتی ہے، جس سے ALD Planetary Susceptor LEDs، لیزرز اور دیگر آپٹو الیکٹرانک اجزاء کی تیاری کے لیے بہترین فٹ بنتا ہے۔

ALD سائیکل

جوہری تہہ جمع (ALD)دیگر پتلی فلم جمع کرنے کی تکنیکوں پر کئی اہم فوائد پیش کرتا ہے، جس سے یہ مختلف ایپلی کیشنز، خاص طور پر مائیکرو الیکٹرانکس اور نینو ٹیکنالوجی میں تیزی سے مقبول ہوتا جا رہا ہے۔

یہاں ALD کے چند اہم فوائد ہیں:

1. اینگسٹروم کی سطح کی موٹائی کا کنٹرول:

ALD اینگسٹروم لیول (0.1 نینو میٹر) تک فلم کی موٹائی کے عین مطابق کنٹرول کی اجازت دیتا ہے۔ درستگی کی یہ سطح اس کے خود کو محدود کرنے والے سطح کے رد عمل کے ذریعے حاصل کی جاتی ہے، جہاں ہر دور ایک واحد جوہری تہہ جمع کرتا ہے۔

2. بہترین یکسانیت اور مطابقت:

ALD بڑے سطحی علاقوں اور پیچیدہ 3D ڈھانچے پر غیر معمولی یکسانیت کی نمائش کرتا ہے، بشمول خندق اور ویاس جیسے اعلی پہلو تناسب کی خصوصیات۔ یہ ان ایپلی کیشنز کے لیے بہت اہم ہے جن کے لیے پیچیدہ جیومیٹریوں پر یکساں کوٹنگز کی ضرورت ہوتی ہے، جیسے سیمی کنڈکٹر آلات میں۔

3. کم جمع کرنے کا درجہ حرارت:

ALD کو جمع کرنے کی دیگر تکنیکوں کے مقابلے نسبتاً کم درجہ حرارت (اکثر 300 ° C سے کم) پر انجام دیا جا سکتا ہے۔ یہ گرمی سے حساس ذیلی جگہوں کے لیے فائدہ مند ہے اور مواد کی وسیع رینج کے استعمال کو قابل بناتا ہے۔

4. اعلیٰ معیار کی فلمیں:

ALD عام طور پر بہترین کثافت، کم نجاست کی سطح، اور ساخت اور موٹائی میں اعلی یکسانیت والی فلمیں تیار کرتا ہے۔ یہ خصوصیات مختلف ایپلی کیشنز میں بہترین کارکردگی کے حصول کے لیے ضروری ہیں۔

5. وسیع مواد کا انتخاب:

ALD ایسے مواد کا ایک وسیع انتخاب پیش کرتا ہے جسے جمع کیا جا سکتا ہے، بشمول آکسائیڈ، نائٹرائڈ، دھاتیں، اور سلفائیڈ۔ یہ استرتا اسے ایپلی کیشنز کی ایک وسیع رینج کے لیے موزوں بناتا ہے۔

6. توسیع پذیری اور صنعتی قابل اطلاق:

ALD ٹیکنالوجی انتہائی قابل توسیع ہے اور اسے موجودہ مینوفیکچرنگ کے عمل میں آسانی سے ضم کیا جا سکتا ہے۔ یہ مختلف سبسٹریٹ سائز اور شکلوں کے ساتھ مطابقت رکھتا ہے، جو اسے اعلی حجم کی پیداوار کے لیے موزوں بناتا ہے۔