C/C جامع ہیٹر

C/C جامعہیٹر عام طور پر کرسٹل نمو کی بھٹیوں کے مرکز میں واقع ایک صلیب کے ارد گرد پوزیشن میں رکھے جاتے ہیں ، جو مزاحمتی حرارتی نظام کے ذریعہ صلیب کے اندر سیمیکمڈکٹر مواد کو یکساں گرمی فراہم کرتے ہیں۔ جب C/C جامع ہیٹر کو متحرک کیا جاتا ہے تو ، کاربن ریشے اور میٹرکس مزاحمت کے اثر کی بدولت گرمی پیدا کرسکتے ہیں۔ اس حرارت کو تھرمل ترسیل اور تابکاری کے ذریعہ صلیبی کنڈکٹر مواد میں منتقل کیا جاتا ہے ، جس سے انہیں کرسٹل پگھلنے کے لئے درکار درجہ حرارت تک پہنچا جاتا ہے۔ زیادہ مستقل اور موثر درجہ حرارت کی تقسیم کو یقینی بنانے کے ل multiple ، ایک سے زیادہ C/C جامع ہیٹر کو ملایا جاسکتا ہے تاکہ بڑی کرسٹل نمو کی بھٹیوں کے لئے پرتوں والے حرارتی ڈھانچے کو تشکیل دیا جاسکے۔

C/C جامعہیٹر سیمیکمڈکٹر مواد کی یکساں پگھلنے اور کرسٹل نمو کے ل required مطلوبہ درجہ حرارت میلان کے لئے عمل کی شرائط پر عین مطابق کنٹرول فراہم کرسکتے ہیں ، اس طرح کرسٹل معیار پر درجہ حرارت کے اتار چڑھاو کے اثرات کو نمایاں طور پر کم کرتے ہیں۔ لہذا ، ہاٹ زون اعلی درجہ حرارت کے کرسٹل بھٹیوں کے اندر یکساں اور مستحکم درجہ حرارت کی تقسیم کی نمائش کرتا ہے۔ درجہ حرارت کی اس بہتر تقسیم سے اعلی معیار ، کم ڈیفیکٹ مونوکریسٹل لائن سلیکن مصنوعات کو کاشت کرنے میں مدد ملتی ہے ، جو کرسٹل کی برقی اور مکینیکل خصوصیات کو نمایاں طور پر بہتر بناتا ہے۔ سی/سی جامع ہیٹر کی کارروائی کے تحت ، سیمیکمڈکٹر مواد کے پگھلنے والے چکر کو مؤثر طریقے سے مختصر کیا جاسکتا ہے ، اس طرح کرسٹل نمو کی شرح کو تیز کیا جاسکتا ہے اور مجموعی طور پر پیداوار کی کارکردگی کو بہتر بنانے میں مدد ملتی ہے۔

سیمیکمڈکٹر کرسٹل نمو کے لئے تھرمل فیلڈ سسٹم C/C جامع ہیٹر پر مشتمل ہے ، اس کے ساتھ ساتھ بنیادی اجزاء بھی شامل ہیں جن میں مصلوب ، فلو گائیڈ ٹیوبیں ، تھرمل موصلیت کی آستینیں ، اور کروسیبل شافٹ شامل ہیں۔ سیمیکوریکس کے سی/سی جامع ہیٹروں کا انتخاب تھرمل فیلڈ سسٹم میں اضافے اور اصلاح کی سہولت فراہم کرسکتا ہے ، جس سے سیمیکمڈکٹر ، فوٹو وولٹک ، اور آپٹیکل صنعتوں جیسے شعبوں میں اعلی کارکردگی والے کرسٹل مواد کے لئے بڑے پیمانے پر درخواست کے مطالبات کو مؤثر طریقے سے پورا کیا جاسکتا ہے۔