LPE SiC-Epi ہاف مون

سازوسامان کے اجزاء کی حفاظت، آلودگی کو روک کر، اور عمل کے مستقل حالات کو یقینی بنا کر، Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon سیمی کنڈکٹر انڈسٹری کو پہلے سے زیادہ نفیس اور اعلیٰ کارکردگی والے آلات تیار کرنے کی طاقت دیتا ہے جو ہماری تکنیکی دنیا کو طاقت دیتے ہیں۔

بہت سے مواد بلند درجہ حرارت پر کارکردگی میں کمی کا شکار ہو جاتے ہیں، لیکن CVD TaC نہیں۔ LPE SiC-Epi Halfmoon، اپنے غیر معمولی تھرمل استحکام اور آکسیڈیشن کے خلاف مزاحمت کے ساتھ، epitaxy ری ایکٹرز کے اندر آنے والے اعلی درجہ حرارت پر بھی ساختی طور پر مستحکم اور کیمیائی طور پر غیر فعال رہتا ہے۔ یہ مسلسل حرارتی پروفائلز کو یقینی بناتا ہے، انحطاط شدہ اجزاء سے آلودگی کو روکتا ہے، اور قابل اعتماد کرسٹل نمو کو قابل بناتا ہے۔ یہ لچک TaC کے اعلی پگھلنے والے نقطہ (3800 ° C سے زیادہ) اور اس کی آکسیڈیشن اور تھرمل جھٹکا کے خلاف مزاحمت سے پیدا ہوتی ہے۔

بہت سے epitaxial عمل بڑھتے ہوئے کرسٹل تک اجزاء کے ایٹموں کو پہنچانے کے لیے ری ایکٹیو گیسوں جیسے سائلین، امونیا اور میٹلارگنکس پر انحصار کرتے ہیں۔ یہ گیسیں انتہائی سنکنرن ہو سکتی ہیں، ری ایکٹر کے اجزاء پر حملہ آور ہو سکتی ہیں اور ممکنہ طور پر نازک اپیٹیکسیل تہہ کو آلودہ کر سکتی ہیں۔ LPE SiC-Epi Halfmoon کیمیائی خطرات کے بیراج کے خلاف ڈٹ کر کھڑا ہے۔ رد عمل والی گیسوں میں اس کی موروثی جڑت l TaC جالی کے اندر مضبوط کیمیائی بندھنوں سے ہوتی ہے، جو ان گیسوں کو کوٹنگ کے ساتھ رد عمل ظاہر کرنے یا پھیلانے سے روکتی ہے۔ یہ غیر معمولی کیمیائی مزاحمت LPE SiC-Epi Halfmoon کو سخت کیمیائی پروسیسنگ ماحول میں اجزاء کی حفاظت کے لیے ایک اہم حصہ بناتی ہے۔

رگڑ کارکردگی اور لمبی عمر کا دشمن ہے۔ LPE SiC-Epi Halfmoon کی CVD TaC کوٹنگ پہننے کے خلاف ایک ناقابل تسخیر ڈھال کے طور پر کام کرتی ہے، رگڑ کے گتانک کو نمایاں طور پر کم کرتی ہے اور آپریشن کے دوران مادی نقصان کو کم کرتی ہے۔ یہ غیر معمولی لباس مزاحمت خاص طور پر ہائی اسٹریس ایپلی کیشنز میں قیمتی ہے جہاں خوردبینی لباس بھی کارکردگی میں نمایاں کمی اور قبل از وقت ناکامی کا باعث بن سکتا ہے۔ LPE SiC-Epi Halfmoon اس میدان میں بہترین ہے، غیر معمولی کنفارمل کوریج پیش کرتا ہے جو اس بات کو یقینی بناتا ہے کہ انتہائی پیچیدہ جیومیٹریوں کو بھی مکمل اور حفاظتی تہہ ملے، کارکردگی اور لمبی عمر میں اضافہ ہوتا ہے۔

وہ دن گئے جب CVD TaC کوٹنگز چھوٹے، خصوصی اجزاء تک محدود تھے۔ ڈیپوزیشن ٹیکنالوجی میں ترقی نے 750 ملی میٹر قطر تک سبسٹریٹس پر کوٹنگز کی تخلیق کو قابل بنایا ہے، جس سے بڑے، زیادہ مضبوط اجزاء کے لیے راہ ہموار ہوئی ہے جو اس سے بھی زیادہ مانگی ہوئی ایپلی کیشنز کو سنبھالنے کے قابل ہیں۔

ایل پی ای ری ایکٹر کے لیے 8 انچ کا ہاف مون پارٹ

Epitaxy میں CVD TaC کوٹنگز کے فوائد:

بہتر آلہ کی کارکردگی:عمل کی پاکیزگی اور یکسانیت کو برقرار رکھتے ہوئے، CVD TaC کوٹنگز بہتر برقی اور آپٹیکل خصوصیات کے ساتھ اعلیٰ معیار کی ایپیٹیکسیل تہوں کی نشوونما میں حصہ ڈالتی ہیں، جس سے سیمی کنڈکٹر آلات میں کارکردگی بہتر ہوتی ہے۔

اضافہ اور پیداوار:CVD TaC-کوٹیڈ اجزاء کی توسیع شدہ عمر دیکھ بھال اور تبدیلی سے وابستہ ڈاؤن ٹائم کو کم کرتی ہے، جس سے ری ایکٹر کا اپ ٹائم زیادہ ہوتا ہے اور پیداواری تھروپپٹ میں اضافہ ہوتا ہے۔ مزید برآں، آلودگی کا کم خطرہ قابل استعمال آلات کی زیادہ پیداوار میں ترجمہ کرتا ہے۔

لاگت کی تاثیر:جبکہ CVD TaC کوٹنگز کی ابتدائی قیمت زیادہ ہو سکتی ہے، ان کی توسیع شدہ عمر، کم دیکھ بھال کے تقاضے، اور بہتر آلات کی پیداوار ایپیٹیکسی آلات کی زندگی بھر میں لاگت کی اہم بچت میں حصہ ڈالتی ہے۔