مصنوعات

جب epitaxy اور MOCVD جیسے ویفر ہینڈلنگ کے عمل کی بات آتی ہے تو، پلازما Etch چیمبرز کے لیے Semicorex کی ہائی ٹمپریچر SiC کوٹنگ سرفہرست انتخاب ہے۔ ہمارے کیریئرز ہماری عمدہ SiC کرسٹل کوٹنگ کی بدولت اعلی گرمی مزاحمت، یہاں تک کہ تھرمل یکسانیت، اور پائیدار کیمیائی مزاحمت فراہم کرتے ہیں۔

Semicorex کی ICP پلازما ایچنگ ٹرے خاص طور پر اعلی درجہ حرارت والے ویفر ہینڈلنگ کے عمل جیسے کہ epitaxy اور MOCVD کے لیے تیار کی گئی ہے۔ 1600°C تک مستحکم، اعلی درجہ حرارت کی آکسیڈیشن مزاحمت کے ساتھ، ہمارے کیریئرز حتیٰ کہ تھرمل پروفائلز، لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونے فراہم کرتے ہیں، اور آلودگی یا نجاست کے پھیلاؤ کو روکتے ہیں۔

ICP پلازما اینچنگ سسٹم کے لیے Semicorex کا SiC Coated کیرئیر اعلی درجہ حرارت والے ویفر ہینڈلنگ کے عمل جیسا کہ epitaxy اور MOCVD کے لیے ایک قابل اعتماد اور سستا حل ہے۔ ہمارے کیریئرز میں ایک عمدہ SiC کرسٹل کوٹنگ ہے جو اعلیٰ گرمی کی مزاحمت، حتیٰ کہ تھرمل یکسانیت، اور پائیدار کیمیائی مزاحمت فراہم کرتی ہے۔

Inductively-Coupled Plasma (ICP) کے لیے Semicorex کا سلکان کاربائیڈ لیپت سسپٹر خاص طور پر ہائی ٹمپریچر ویفر ہینڈلنگ کے عمل جیسے کہ epitaxy اور MOCVD کے لیے ڈیزائن کیا گیا ہے۔ 1600°C تک مستحکم، اعلی درجہ حرارت کی آکسیڈیشن مزاحمت کے ساتھ، ہمارے کیریئرز حتیٰ کہ تھرمل پروفائلز، لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونوں کو یقینی بناتے ہیں، اور آلودگی یا نجاست کے پھیلاؤ کو روکتے ہیں۔

سیمیکوریکس کا آئی سی پی ایچنگ ویفر ہولڈر اعلی درجہ حرارت والے ویفر ہینڈلنگ کے عمل جیسا کہ ایپیٹیکسی اور ایم او سی وی ڈی کے لیے بہترین حل ہے۔ 1600°C تک مستحکم، اعلی درجہ حرارت کی آکسیڈیشن مزاحمت کے ساتھ، ہمارے کیریئرز تھرمل پروفائلز، لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونوں کو بھی یقینی بناتے ہیں، اور آلودگی یا نجاست کے پھیلاؤ کو روکتے ہیں۔

سیمیکوریکس کی آئی سی پی ایچنگ کیریئر پلیٹ ویفر ہینڈلنگ اور پتلی فلم جمع کرنے کے عمل کے مطالبے کے لیے بہترین حل ہے۔ ہماری پروڈکٹ اعلی حرارت اور سنکنرن مزاحمت، حتیٰ کہ تھرمل یکسانیت، اور لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونے فراہم کرتی ہے۔ صاف اور ہموار سطح کے ساتھ، ہمارا کیریئر قدیم ویفرز کو سنبھالنے کے لیے بہترین ہے۔