سی سی لیپت پی ایس ایس ایچنگ کیریئر

نہ صرف پتلی فلم جمع کرنے کے مراحل جیسے ایپیٹیکسی یا MOCVD، یا ویفر ہینڈلنگ پروسیسنگ جیسے ایچنگ کے لیے، Semicorex الٹرا پیور SiC Coated PSS Etching Carrier فراہم کرتا ہے جو ویفرز کو سپورٹ کرنے کے لیے استعمال ہوتا ہے۔ پلازما اینچ یا ڈرائی ایچ میں، یہ سامان، ایپیٹیکسی سسپٹرز، پینکیک یا MOCVD کے لیے سیٹلائٹ پلیٹ فارم، سب سے پہلے جمع کرنے والے ماحول کا نشانہ بنتے ہیں، اس لیے اس میں گرمی اور سنکنرن کی مزاحمت زیادہ ہوتی ہے۔ SiC Coated PSS Etching Carrier میں اعلی تھرمل چالکتا، اور بہترین گرمی کی تقسیم کی خصوصیات بھی ہیں۔

ایل ای ڈی (لائٹ ایمیٹنگ ڈائیوڈ) ڈیوائسز کی فیبریکیشن میں ایس آئی سی کوٹڈ پی ایس ایس (پیٹرنڈ سیفائر سبسٹریٹ) ایچنگ کیریئرز کا استعمال کیا جاتا ہے۔ پی ایس ایس ایچ کیرئیر گیلیم نائٹرائڈ (GaN) کی پتلی فلم کی نشوونما کے لیے سبسٹریٹ کے طور پر کام کرتا ہے جو LED ڈھانچہ بناتی ہے۔ پی ایس ایس ایچ کیرئیر کو پھر گیلے اینچنگ کے عمل کا استعمال کرتے ہوئے ایل ای ڈی ڈھانچے سے ہٹا دیا جاتا ہے، جس سے نمونہ دار سطح رہ جاتی ہے جو ایل ای ڈی کی روشنی نکالنے کی کارکردگی کو بڑھاتی ہے۔

SiC Coated PSS Etching Carrier کے پیرامیٹرز

اعلی طہارت کی خصوصیات SiC Coated PSS Etching Carrier

- گریفائٹ سبسٹریٹ اور سلکان کاربائیڈ دونوں پرت کی کثافت اچھی ہے اور یہ اعلی درجہ حرارت اور سنکنرن کام کرنے والے ماحول میں اچھا حفاظتی کردار ادا کر سکتی ہے۔

- سنگل کرسٹل کی نشوونما کے لیے استعمال ہونے والے سلیکون کاربائیڈ لیپت سسیپٹر کی سطح بہت زیادہ چپٹی ہوتی ہے۔

- گریفائٹ سبسٹریٹ اور سلکان کاربائیڈ پرت کے درمیان تھرمل ایکسپینشن گتانک میں فرق کو کم کریں، کریکنگ اور ڈیلامینیشن کو روکنے کے لیے بانڈنگ کی طاقت کو مؤثر طریقے سے بہتر کریں۔

- گریفائٹ سبسٹریٹ اور سلکان کاربائیڈ دونوں تہوں میں اعلی تھرمل چالکتا، اور بہترین گرمی کی تقسیم کی خصوصیات ہیں۔

- اعلی پگھلنے کا نقطہ، اعلی درجہ حرارت آکسیکرن مزاحمت، سنکنرن مزاحمت.