پی ایس ایس ایچنگ کے لیے اینچنگ کیریئر ہولڈر

PSS Etching کے لیے Semicorex کا Etching Carrier Holder سب سے زیادہ ڈیمانڈ ایپیٹیکسی آلات ایپلی کیشنز کے لیے بنایا گیا ہے۔ ہمارا انتہائی خالص گریفائٹ کیریئر سخت ماحول، اعلی درجہ حرارت اور سخت کیمیائی صفائی کا مقابلہ کر سکتا ہے۔ SiC لیپت کیریئر بہترین گرمی کی تقسیم کی خصوصیات، اعلی تھرمل چالکتا، اور لاگت مؤثر ہے. ہماری مصنوعات کو بہت سے یورپی اور امریکی بازاروں میں بڑے پیمانے پر استعمال کیا جاتا ہے، اور ہم چین میں آپ کے طویل مدتی شراکت دار بننے کے منتظر ہیں۔

انکوائری بھیجیں۔

مصنوعات کی وضاحت

Semicorex میں، ہم نے PSS Etching کے لیے Etching Carrier Holder کو خاص طور پر epitaxial گروتھ اور ویفر ہینڈلنگ کے عمل کے لیے درکار سخت ماحول کے لیے ڈیزائن کیا ہے۔ ہمارا انتہائی خالص گریفائٹ کیریئر MOCVD، ایپیٹیکسی سسیپٹرز، پینکیک یا سیٹلائٹ پلیٹ فارمز، اور ویفر ہینڈلنگ پروسیسنگ جیسے اینچنگ جیسے پتلی فلموں کے جمع کرنے کے مراحل کے لیے مثالی ہے۔ SiC لیپت کیریئر میں اعلی گرمی اور سنکنرن مزاحمت، بہترین گرمی کی تقسیم کی خصوصیات، اور ایک اعلی تھرمل چالکتا ہے. ہماری مصنوعات سستی ہیں اور قیمت کا اچھا فائدہ پیش کرتی ہیں۔

PSS Etching کے لیے ہمارے Etching Carrier Holder کے بارے میں مزید جاننے کے لیے آج ہی ہم سے رابطہ کریں۔

پی ایس ایس ایچنگ کے لیے اینچنگ کیریئر ہولڈر کے پیرامیٹرز

CVD-SIC کوٹنگ کی اہم تفصیلات
SiC-CVD پراپرٹیز
کرسٹل کا ڈھانچہ	ایف سی سی Î² مرحلہ
کثافت	g/cm ³	3.21
سختی	Vickers سختی	2500
اناج کا سائز	¼m	2~10
کیمیائی طہارت	%	99.99995
حرارت کی صلاحیت	J·kg-1 · K-1	640
Sublimation درجہ حرارت	℃	2700
Felexural طاقت	MPa (RT 4 پوائنٹ)	415
نوجوان کا ماڈیولس	Gpa (4pt موڑ، 1300â)	430
حرارتی توسیع (C.T.E)	10-6K-1	4.5
حرارت کی ایصالیت	(W/mK)	300