SiC کوٹنگ کیمیائی بخارات جمع کرنے (CVD) کے عمل کے ذریعے سسپٹر پر ایک پتلی تہہ ہے۔ سلکان کاربائیڈ مواد سلکان پر بہت سے فوائد فراہم کرتا ہے، بشمول 10x بریک ڈاؤن الیکٹرک فیلڈ کی طاقت، 3x بینڈ گیپ، جو مواد کو اعلی درجہ حرارت اور کیمیائی مزاحمت، بہترین لباس مزاحمت کے ساتھ ساتھ تھرمل چالکتا فراہم کرتا ہے۔
Semicorex اپنی مرضی کے مطابق سروس فراہم کرتا ہے، آپ کو ایسے اجزاء کے ساتھ اختراع کرنے میں مدد کرتا ہے جو زیادہ دیر تک چلتے ہیں، سائیکل کے اوقات کو کم کرتے ہیں، اور پیداوار کو بہتر بناتے ہیں۔
SiC کوٹنگ کے کئی منفرد فوائد ہیں۔
اعلی درجہ حرارت کی مزاحمت: CVD SiC لیپت سسپٹر 1600°C تک اعلی درجہ حرارت کو برداشت کر سکتا ہے بغیر اہم تھرمل انحطاط کے۔
کیمیائی مزاحمت: سلکان کاربائیڈ کوٹنگ کیمیکلز کی ایک وسیع رینج کے خلاف بہترین مزاحمت فراہم کرتی ہے، بشمول تیزاب، الکلیس، اور نامیاتی سالوینٹس۔
پہننے کی مزاحمت: SiC کوٹنگ بہترین لباس مزاحمت کے ساتھ مواد فراہم کرتی ہے، جو اسے ان ایپلی کیشنز کے لیے موزوں بناتی ہے جن میں زیادہ ٹوٹ پھوٹ شامل ہوتی ہے۔
تھرمل کنڈکٹیویٹی: CVD SiC کوٹنگ مواد کو اعلی تھرمل چالکتا فراہم کرتی ہے، جو اسے اعلی درجہ حرارت والے ایپلی کیشنز میں استعمال کے لیے موزوں بناتی ہے جن کے لیے حرارت کی موثر منتقلی کی ضرورت ہوتی ہے۔
اعلی طاقت اور سختی: سلکان کاربائیڈ لیپت سسپٹر مواد کو اعلی طاقت اور سختی فراہم کرتا ہے، یہ ان ایپلی کیشنز کے لیے موزوں بناتا ہے جن کے لیے اعلی مکینیکل طاقت کی ضرورت ہوتی ہے۔
SiC کوٹنگ مختلف ایپلی کیشنز میں استعمال ہوتی ہے۔
ایل ای ڈی مینوفیکچرنگ: سی وی ڈی سی سی کوٹڈ سسپٹر کو مختلف ایل ای ڈی اقسام کی تیاری میں استعمال کیا جاتا ہے، بشمول نیلے اور سبز ایل ای ڈی، یووی ایل ای ڈی اور ڈیپ-یووی ایل ای ڈی، اس کی اعلی تھرمل چالکتا اور کیمیائی مزاحمت کی وجہ سے۔
موبائل کمیونیکیشن: GaN-on-SiC epitaxial عمل کو مکمل کرنے کے لیے CVD SiC کوٹڈ سسپٹر HEMT کا ایک اہم حصہ ہے۔
سیمی کنڈکٹر پروسیسنگ: سی وی ڈی سی سی کوٹڈ سسپٹر سیمی کنڈکٹر انڈسٹری میں مختلف ایپلی کیشنز کے لیے استعمال کیا جاتا ہے، بشمول ویفر پروسیسنگ اور ایپیٹیکسیل گروتھ۔
SiC لیپت گریفائٹ اجزاء
سلیکن کاربائیڈ کوٹنگ (SiC) گریفائٹ کے ذریعے تیار کردہ، کوٹنگ کو CVD طریقہ سے اعلی کثافت والے گریفائٹ کے مخصوص درجات پر لاگو کیا جاتا ہے، لہٰذا یہ غیر فعال ماحول میں 3000 °C سے زیادہ، ویکیوم میں 2200°C کے ساتھ اعلی درجہ حرارت کی بھٹی میں کام کر سکتا ہے۔ .
خاص خصوصیات اور مواد کی کم مقدار تیز رفتار حرارتی شرح، یکساں درجہ حرارت کی تقسیم اور کنٹرول میں شاندار درستگی کی اجازت دیتی ہے۔
Semicorex SiC کوٹنگ کا مادی ڈیٹا
مخصوص خصوصیات |
یونٹس |
اقدار |
ساخت |
|
ایف سی سی β مرحلہ |
واقفیت |
کسر (%) |
111 کو ترجیح دی گئی۔ |
بلک کثافت |
g/cm³ |
3.21 |
سختی |
Vickers سختی |
2500 |
حرارت کی صلاحیت |
J kg-1 K-1 |
640 |
حرارتی توسیع 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
ینگ کا ماڈیولس |
Gpa (4pt موڑ، 1300℃) |
430 |
اناج کا سائز |
μm |
2~10 |
Sublimation درجہ حرارت |
℃ |
2700 |
Felexural طاقت |
MPa (RT 4 پوائنٹ) |
415 |
تھرمل چالکتا |
(W/mK) |
300 |
نتیجہ CVD SiC coated susceptor ایک جامع مواد ہے جو susceptor اور Silicon carbide کی خصوصیات کو یکجا کرتا ہے۔ یہ مواد منفرد خصوصیات کا حامل ہے، بشمول اعلی درجہ حرارت اور کیمیائی مزاحمت، بہترین لباس مزاحمت، اعلی تھرمل چالکتا، اور اعلی طاقت اور سختی۔ یہ خصوصیات اسے سیمی کنڈکٹر پروسیسنگ، کیمیکل پروسیسنگ، ہیٹ ٹریٹمنٹ، سولر سیل مینوفیکچرنگ، اور ایل ای ڈی مینوفیکچرنگ سمیت مختلف ہائی ٹمپریچر ایپلی کیشنز کے لیے ایک پرکشش مواد بناتی ہیں۔
سیمیکوریکس کا آئی سی پی ایچنگ ویفر ہولڈر اعلی درجہ حرارت والے ویفر ہینڈلنگ کے عمل جیسا کہ ایپیٹیکسی اور ایم او سی وی ڈی کے لیے بہترین حل ہے۔ 1600°C تک مستحکم، اعلی درجہ حرارت کی آکسیڈیشن مزاحمت کے ساتھ، ہمارے کیریئرز تھرمل پروفائلز، لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونوں کو بھی یقینی بناتے ہیں، اور آلودگی یا نجاست کے پھیلاؤ کو روکتے ہیں۔
مزید پڑھانکوائری بھیجیں۔سیمیکوریکس کی آئی سی پی ایچنگ کیریئر پلیٹ ویفر ہینڈلنگ اور پتلی فلم جمع کرنے کے عمل کے مطالبے کے لیے بہترین حل ہے۔ ہماری پروڈکٹ اعلی حرارت اور سنکنرن مزاحمت، حتیٰ کہ تھرمل یکسانیت، اور لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونے فراہم کرتی ہے۔ صاف اور ہموار سطح کے ساتھ، ہمارا کیریئر قدیم ویفرز کو سنبھالنے کے لیے بہترین ہے۔
مزید پڑھانکوائری بھیجیں۔آئی سی پی ایچنگ کے عمل کے لیے سیمیکوریکس کا ویفر ہولڈر ویفر ہینڈلنگ اور پتلی فلم جمع کرنے کے عمل کے لیے بہترین انتخاب ہے۔ ہماری پروڈکٹ اعلیٰ حرارت اور سنکنرن مزاحمت، حتیٰ کہ تھرمل یکسانیت، اور مستقل اور قابل اعتماد نتائج کے لیے بہترین لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونوں پر فخر کرتی ہے۔
مزید پڑھانکوائری بھیجیں۔سیمیکوریکس کا آئی سی پی سلکان کاربن کوٹڈ گریفائٹ ویفر ہینڈلنگ اور پتلی فلم جمع کرنے کے عمل کا مطالبہ کرنے کے لیے بہترین انتخاب ہے۔ ہماری پروڈکٹ اعلی حرارت اور سنکنرن مزاحمت، حتیٰ کہ تھرمل یکسانیت، اور بہترین لیمینر گیس کے بہاؤ کے نمونوں پر فخر کرتی ہے۔
مزید پڑھانکوائری بھیجیں۔سیمیکوریکس کے آئی سی پی پلازما ایچنگ سسٹم کو منتخب کریں PSS عمل کے لیے اعلیٰ معیار کے ایپیٹیکسی اور MOCVD عمل کے لیے۔ ہماری مصنوعات کو خاص طور پر ان عملوں کے لیے تیار کیا گیا ہے، جو اعلیٰ حرارت اور سنکنرن مزاحمت کی پیشکش کرتا ہے۔ صاف اور ہموار سطح کے ساتھ، ہمارا کیریئر قدیم ویفرز کو سنبھالنے کے لیے بہترین ہے۔
مزید پڑھانکوائری بھیجیں۔سیمیکوریکس کی ICP پلازما ایچنگ پلیٹ ویفر ہینڈلنگ اور پتلی فلم جمع کرنے کے عمل کے لیے اعلیٰ حرارت اور سنکنرن مزاحمت فراہم کرتی ہے۔ ہماری مصنوعات کو اعلی درجہ حرارت اور سخت کیمیائی صفائی کو برداشت کرنے کے لیے انجنیئر کیا گیا ہے، پائیداری اور لمبی عمر کو یقینی بناتا ہے۔ صاف اور ہموار سطح کے ساتھ، ہمارا کیریئر قدیم ویفرز کو سنبھالنے کے لیے بہترین ہے۔
مزید پڑھانکوائری بھیجیں۔