SiC ICP اینچنگ ڈسک

Semicorex SiC ICP Etching Disk کو اپنانا عمل کی اصلاح، وشوسنییتا اور بالآخر اعلیٰ سیمی کنڈکٹر ڈیوائس کی کارکردگی میں ایک اسٹریٹجک سرمایہ کاری کی نمائندگی کرتا ہے۔ فوائد ٹھوس ہیں:

اینچنگ کی درستگی اور یکسانیت:SiC ICP Etching Disk کی اعلیٰ تھرمل اور جہتی استحکام زیادہ یکساں اینچنگ کی شرحوں اور فیچر کے عین مطابق کنٹرول میں معاون ہے، ویفر سے ویفر کے تغیر کو کم سے کم کرتا ہے اور ڈیوائس کی پیداوار کو بہتر بناتا ہے۔

توسیعی ڈسک کی عمر:SiC ICP Etching Disk کی غیر معمولی سختی اور پہننے اور سنکنرن کے خلاف مزاحمت روایتی مواد کے مقابلے میں نمایاں طور پر طویل ڈسک کی عمر میں ترجمہ کرتی ہے، متبادل کے اخراجات اور ڈاؤن ٹائم کو کم کرتی ہے۔

بہتر کارکردگی کے لیے ہلکا پھلکا:اپنی غیر معمولی طاقت کے باوجود، SiC ICP Etching Disk حیرت انگیز طور پر ہلکا پھلکا مواد ہے۔ یہ کم ماس گردش کے دوران کم جڑی قوتوں میں ترجمہ کرتا ہے، جس سے تیز رفتاری اور تنزلی کے چکروں کو فعال کیا جاتا ہے، جس سے عمل کے تھرو پٹ اور آلات کی کارکردگی بہتر ہوتی ہے۔

تھرو پٹ اور پیداواری صلاحیت میں اضافہ:SiC ICP Etching Disk کی ہلکی پھلکی نوعیت اور تیز رفتار تھرمل سائیکلنگ کو برداشت کرنے کی صلاحیت تیز تر پروسیسنگ کے اوقات اور تھرو پٹ میں اضافہ، سازوسامان کے زیادہ سے زیادہ استعمال اور پیداواری صلاحیت میں معاون ہے۔

آلودگی کا خطرہ کم:SiC ICP Etching Disk کی کیمیائی جڑت اور پلازما اینچنگ کے خلاف مزاحمت ذرات کی آلودگی کے خطرے کو کم کرتی ہے، جو کہ حساس سیمی کنڈکٹر کے عمل کی پاکیزگی کو برقرار رکھنے اور ڈیوائس کے معیار کو یقینی بنانے کے لیے اہم ہے۔

سی وی ڈی اور ویکیوم سپٹرنگ ایپلی کیشنز:اینچنگ کے علاوہ، SiC ICP Etching Disk کی غیر معمولی خصوصیات اسے کیمیکل وانپ ڈپوزیشن (CVD) اور ویکیوم سپٹرنگ کے عمل میں بطور سبسٹریٹ استعمال کرنے کے لیے موزوں بناتی ہیں، جہاں اس کا اعلی درجہ حرارت کا استحکام اور کیمیائی جڑنا ضروری ہے۔